Fotorezist je mješavina polimera i nekih spojeva, među kojima je najvažniji generator foto kiselina (PAG). Kada fotoni udare u PAG, proizvodi se kiselina koja reaguje sa polimerom, razgrađujući ga i uzrokujući da ga razvijač rastvori.
Fotolitografski fotorezist se obično dijeli na dvije vrste: pozitivni fotorezist i negativan fotorezist.
Pozitivni fotorezist: Izloženi dio je rastvorljiv u rastvoru razvijača, dok je neeksponirani deo nerastvorljiv u rastvoru za razvijanje. Nakon razvoja, preostali uzorak fotorezista na podlozi je isti kao i ciljni uzorak na ploči maske.
Negativni fotorezist: Izloženi dio je nerastvorljiv u otopini razvijača, dok je neeksponirani dio topiv u otopini razvijača. Preostali uzorak fotorezista na podlozi nakon razvoja komplementaran je ciljnom uzorku na ploči maske.
Stoga, za pozitivni fotorezist, nagrizanje podloge bez fotorezist zaštite nakon što je fotolitografija završena, i konačno ispiranje preostalog fotorezista, postiže jedno-proces izgradnje poluvodičkih uređaja na površini supstrata.
